晶圆OCD量测:半导体制造中的关键环节-百度爱采购
2024年4月17日 晶圆OCD量测利用光学干涉和衍射原理,通过投射和反射光线来测量晶圆表面和内部结构的几何尺寸。具体来说,它通过测量光线在晶圆表面和内部结构上的反射和干涉,计...百度爱采购
2024年07月30日
ocd量测原理
“ocd量测原理”的相关信息：
半导体量测检测设备行业研究:国产化短板,替代潜力巨大
2023年9月18日 目前主要依靠光学散射仪的非成像式测量技 术，光学散射仪又称为光学关键尺寸测量仪（OCD），其原理是通过测量样品的散 射信息，求解逆散射问题来重构待测样品的三维形貌。OCD 测量...未来智库
2024年07月30日
半导体行业(八十九)——工艺和器件评估(七)_测量
2019年9月13日 一些尺寸测量显微镜使用发射光来进行掩模版关键尺寸的测量。光束由掩模版底部穿过,需要测量的图形在光束照射下移动,同时掩模版之上的探测器会在灯光被不透明图形挡...1搜狐网
2024年07月30日
ocd设备原理 - 百度文库
1页 发布时间: 2023年04月09日OCD（Optical Critical Dimension）是一种电子制造技术中常用的测量设备，它的原理是基于光学反射现象。在这种设备中，一束光线通过被测对象表面后，会受到表面形貌的影响而...百度文库
2024年07月30日
OCD半导体:半导体制造中的重要技术-百度爱采购
2024年4月17日 一、OCD半导体技术原理 OCD半导体技术是一种基于光学测量的技术,通过激光照射在半导体器件上,并分析反射或透射的光信号,从而获取器件的关键尺寸信息,如线宽、...百度爱采购
2024年07月30日
光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理-电子工程世界
2023年6月27日 光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理 以下为报告PPT: 关键字:光刻技术OCD引用地址:光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理电子工程世界
2024年07月30日
光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理 - 制造/封装 - 电子...
2023年5月24日 光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理- 集成电路芯片持续朝着密度不断增加和器件尺寸不断微缩的方向发展,其中最为关键的一个参数就是栅极线条宽度。任何经过光刻后的...12电子发烧友
2024年07月30日
半导体工艺控制设备行业研究:国产化率不足5%,替代空间大
2023年7月5日 在 IC 制造中，应用光学原理对纳米结构 CD（关键尺寸）、高度、侧壁角等形貌参数的测量主 要采用“非成像式光学技术——光学散射仪”，也称为 OCD 测量仪。 CD-SEM（电子束关键尺寸...未来智库
2024年07月30日
