光学邻近效应校正_光学邻近校正-CSDN博客
2024年3月5日 光学邻近效应校正 光学邻近效应校正 是采用靠近掩模图形的亚分辨率特征使掩模图 形预畸变,从而使经曝光得到的边界特征满足设计要求。由于微细图形尺寸的 不断减...CSDN博客
2024年09月24日
光学邻近效应
“光学邻近效应”的相关信息：
光刻机详解二:光学邻近校正,毫厘之间的卡脖子技术!
2019年8月2日 光学邻近效应(OpticalProximity Effect, OPE)是指由于部分相干成像过程中的非线性空间滤波,像强度频谱的能量分布和位相分布相对理想像频谱有一定畸变,并最终大大降低了成像质量。 光...芯东西
2024年09月24日
光学邻近效应修正技术的基本知识-电子发烧友网
2023年9月1日 01在开始光学邻近效应修正之前,首先需要通过试验数据获得精确的光刻模型,可以对给定掩模版预测出曝光后图形。 02接下来将待修正图形分割成一系列短栅格,每条短栅格可以在修正过程中...电子发烧友
2024年09月24日
光学邻近效应 - 百度文库
2页 发布时间: 2023年02月28日另外,光学邻近效应还能够改变物体表面反光率,从而让物体表面表现出特定的光晕效果,使物体具有装饰性。 光学邻近效应的发展可以使得表面光学部件上的表面结构微细化,从而起到...百度文库
2024年09月24日
光学邻近效应修正(OPC)技术 - 哔哩哔哩
2024年8月14日 托托科技的无掩膜光刻设备内嵌了光学邻近效应修正(OPC)技术 OPC技术简介 图1 OPC技术示意图 在半导体制造技术中,光刻是一种对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性曝光的技术。不过,由于...哔哩哔哩
2024年09月24日
半导体[光刻]-光学邻近效应修正-OPC技术; - 知乎
2023年12月11日 光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction),是一种增加光刻工艺分辨率的技术。 在理想的情况下,硅片成像图形应该跟光掩膜上的布局设计完全一样。不幸的是,当光掩膜图形的关...知乎
2024年09月24日
硬核产品|光学邻近矫正平台基于规则的版图修正工具EsseRBO...
2024年1月27日 光学邻近效应是指光刻成像分辨率受光衍射影响的现象。当掩模图形的特征尺寸小于光的波长时,光从掩模图形通过后,边角处的光强分布失配,导致最后的晶圆成像相较于原始版图(目标图形)...知乎
2024年09月24日
